質量方針
QUALITY POLICY
以科技創新更好的服務大衆的日常需求
To better serve the daily needs of the public
with scientific and technological innovation
零污染、零排放
Zero pollution, zero emissions
超節能
Super energy saving
高科技
high technology
氣象沉積法工藝流程
MPCVD Process
生産原理技術
Production principle technology
高溫高壓法(HTHP)
優點：設備成本低
缺點：雜質，晶體尺寸小
産品尺寸：塊狀，一般最大邊小于1cm
使用領域：局限于鑽頭，刀具，珠寶
熱絲法化學氣相沉積(HFCVD)
優點：沉積速度快，設備成本較低
缺點：雜質，設備可放大性差
産品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米
使用領域：鑽頭，刀具，珠寶，散熱片，光學窗口，金剛石薄膜
直流電弧等離子體噴射法(DCAPJ)
優點：沉積速度快，常壓下可運行
缺點：雜質，設備可放大性差
産品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米
使用領域：鑽頭，刀具，珠寶，散熱片，光學窗口，金剛石薄膜
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)
優點：穩定，可擴贊，品質高
缺點：設置成本偏高
産品尺寸：片狀，厚度可控，直徑可達10厘米以上
使用領域：鑽頭，刀具，珠寶，散熱片，III-V基底，金剛石薄膜，電化學電極少
